ND掺杂相关论文
采用化学溶液方法，在LaNiO3/Si(100)衬底上生长了Nd掺杂的BiFeO3薄膜.XRD分析结果表明，随着Nd掺杂量的增加，薄膜晶格变小，Nd掺杂量为20......
锆石（ZrSiO4,I41/amd,Z=4）,由于其热分解温度高,热膨胀系数小,化学稳定性优良,辐照稳定性好,所以长期以来被认为是用来固定高放射性......
本文以十二烷基磺酸钠为模板剂,钛酸四丁酯为钛源,采用水热法制备了介孔TiO2光催化剂和不同摩尔比的Nd掺杂介孔TiO2光催化剂,通过X......
铁电薄膜因其在非挥发性铁电随机存储器方面的潜在应用而受到了广泛关注。本论文主要是针对新型无铅、无疲劳Bi4Ti3O12(BIT)基铁电......
柴油机的排放量低、动力性以及经济性好,因而被广泛应用于汽车中,但柴油车尾气碳烟颗粒(PM)给人类的生存环境和身体健康造成了严重......
本论文以层状钙钛矿结构铁电材料BiTiNbO(BTN)及其共生结构BiTiNbO-BiTiO(BTN-BIT)为研究对象，对它们的晶体结构、铁电及介电性能进......
BaTiO3材料具有优异的铁电性、介电性和压电性,作为电子元器件、光学、吸波方面的基础材料而被广泛地应用。为了改善BaTiO3材料的......
在TCO玻璃衬底上依次采用化学水浴法和真空热蒸发工艺沉积CdS、CdTe薄膜,并在不同条件下进行热处理,制备了CdS/CdTe异质结复合薄膜......
通过固相反应法制备了La0.4Nd0.1Sr0.5CoO3多晶样品,利用XRD和SQUID研究了样品的结构和磁性.XRD衍射结果分析表明,该多晶样品无明......
利用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备了Nd掺杂Bi4Ti3O12 (Bi4-xNdxTi3O12,x=0.00,0.30,0.45,0.75,0.85,1.00,1.50)铁电......
测量了在不同离子注入剂量,不同退火条件下的Nd注入Si基晶片室温光致发光谱,结果表明它们均具有蓝、紫发光峰,且发光稳定.在一定范......
用浸渍-提拉法在高硅氧玻璃纤维网格布上制备了具有优异光催化性能的金属Nd/TiO2薄膜,甲基橙光催化降解实验表明Nd的掺杂对TiO2催......
通过射频磁控溅射技术在Si（111）衬底上制备了不同含量的Nd掺杂ZnO薄膜．XRD和AFM分析表明，Nd掺杂没有改变ZnO薄膜的结构，薄膜为纳米多晶......
用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备纯SnO2和掺稀土Nd的SnO2薄膜,在500℃氧气气氛条件下进行45min热处理,获得良好的纳米SnO2薄膜和......
测量了Nd,Ce稀土离子注入Si基晶片,在不同离子注入剂量、不同退火条件下的室温光致发光(PL)谱,结果表明它们均具有蓝、紫发光峰,且......
测量了在不同离子注入剂量,不同退火条件下的Nd注入Si基晶片室温光致发光谱,结果表明它们均具有蓝、紫发光峰,且发光稳定.在一定范......
文章分别用分析纯的Fe（NO3）3·9H2O、Bi（NO3）3·5H2O和Nd（NO3）3·6H2O作为铁源、铋源和钕源,利用水热法在KOH浓度为8M,200℃......
采用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了（Nd,Bi）4Ti3O12薄膜。将薄膜于空气中分别进行每1层、每2层、每3层500℃预退火10 min,......
利用Sol—Gel法、快速退火工艺在Pt（100）／Ti／SiO2／Si衬底上成功制备了Nd掺杂的Ca0．4Sr0．6Bi4Ti4O15（C0。4S0。6NT）铁电薄膜。分别研究了退火......
采用溶胶-凝胶法在FTO／glass衬底上制备了Bi4Ti3O12和Bi3.35Nd0.65Ti3O12（BNT）薄膜，研究了Nd掺杂对Bi4Ti3O12薄膜的晶体结构、铁电性能......
用改进的溶胶-凝胶技术,在硅和石英衬底上制备了不同浓度的Nd掺杂Ba0.80Sr0.20TiO3薄膜,应用XRD和SEM表征了薄膜的晶化行为和微观......
采用传统的冷压陶瓷技术制备了（Ba1-xNdx）（Ti0.97Mn0.03）O3（x=0.01,0.02,0.04,0.06）陶瓷.利用X射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）确定晶体......
用溶胶-凝胶工艺分别制备了Bi5FeTi3O15和NdBi4FeTi3O15铁电陶瓷。X射线衍射结果显示，Nd^3＋掺杂后Bi5FeTi3O15陶瓷衍射峰均向高角度......
以钛酸丁酯为原料,采用溶胶凝胶法合成了纯TiO2与Nd掺杂TiO2纳米粉体,对其进行了350℃至850℃的热处理。利用XRD、SEM、和EDS对粉......
用液相沉淀法制备不同比例Nd掺杂的ZnS纳米颗粒,用X射线衍射仪对制备的样品进行物相分析.以降解溴酚蓝为模型反应,通过吸收和光致......
层状钙钛矿铁电体材料Bi4-xNdxTi3O12 (x=0.0～0.9)陶瓷样品适量Nd掺杂可提高Bi4Ti3O12 (BIT)的铁电性能. 当掺杂量为0.6时,样品的剩......
对采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备的稀土Nd掺杂的SnO2薄膜,进行结构、电学及光学特性的测试分析.实验表明:氧化、热处理条件......
采用溶胶-凝胶法制备了Nd掺杂Bi2O3-Ti O2纳米复合材料,利用X射线衍射（XRD）、拉曼光谱（Raman）、透射电子显微镜（TEM）、高分辨透射电子显......
通过固相反应法制备了La0.4Nd0．1S0.5CoO3多晶样品，利用XRD和SQUID研究了样品的结构和磁性．XRD衍射结果分析表明，该多晶样品无明显杂峰......
为了探讨稀土掺杂对材料导电性影响的机理,采用密度泛函理论并结合非平衡格林函数方法,从理论角度研究了Nd掺杂δ-MoN的电子结构与......
用溶胶-凝胶法制备了不同浓度（0、1％、3％、5％（摩尔分数））的Nd掺杂钛酸锶钡（Ba0.65Sr0．35TiO3，BST）薄膜。XRD结果表明，经700℃退火1h后，样品晶化......
在离子液体介质中,采用溶胶–凝胶法,以钛酸正丁酯为前驱物,合成Nd掺杂纳米TiO2光催化剂TiO2-Nd。采用IR、XRD对催化剂的结构进行......
采用微乳液快速冷冻沉淀法制备出Nd掺杂非晶态氢氧化镍粉体材料, 采用Raman, XRD, SEM和IR对其结构形态进行了表征分析, 并对其交......
研究了掺杂稀土元素Nd对ITO粉末粒径大小、电学及光学性能的影响。实验结果表明,掺入Nd后在形貌上表现为随着掺杂量的增加,ITO粉末......
通过固相反应工艺制备了Zn0.98Nd0.02O纳米颗粒,射频磁控溅射技术在Si（111）衬底上制备了Zn0.98Nd0.02O薄膜。应用XRD、AFM以及拉曼光......
采用溶胶-凝胶法制备稀土Nd掺杂钛酸钡纳米粉体。采用X射线衍射（XRD）、矢量网络分析仪等手段分别分析表征了样品的微结构和高频电磁......
采用溶胶凝胶-浸渍提拉法在304不锈钢表面制备了纯TiO2涂层与Nd掺杂TiO2涂层,采用SEM、XRD、EDS等测试方法对涂层的形貌、晶体结构......
通过射频磁控溅射技术在玻璃衬底和Si（111）村底上制备了Zn0.96Nd0.04O薄膜。XRD分析表明，Zn0.96Nd0.04O薄膜是具有C轴择优生长的纳米......
通过射频磁控溅射技术在Si（111）衬底上制备了Nd掺杂ZnO薄膜.XRD和AFM分析表明,Nd掺杂没有改变ZnO结构,薄膜为纳米多晶结构.随Nd掺杂......
采用柠檬酸络合法于600℃煅烧2h合成了钙钛矿型La1-xNdxFeO3（x=0,0.05,0.10,0.15,0.20,0.25）纳米光催化剂,并利用X射线能谱（EDS）、热重......
全固态双波长激光器是指单一激光器同时输出两个波段激光,具有结构紧凑、可小型化、工作寿命长、可大能量输出和易于操作的优点,被......
采用化学溶液方法,在LaNiO3/Si（100）衬底上生长了Nd掺杂的BiFeO3薄膜.XRD分析结果表明,随着Nd掺杂量的增加,薄膜晶格变小,Nd掺杂量为......
通过射频磁控溅射技术在Si（111）衬底上制备了未掺杂和Nd掺杂ZnO薄膜，研究了衬底温度、氧分压以及Nd不同掺杂浓度等工艺参数对薄膜的影......
用溶胶-凝胶法制备了SrBi4Ti4O15陶瓷材料，研究了烧结温度、铋含量及掺杂Nd对SrBi4Ti4O15陶瓷结构、热扩散率及介电性能的影响。结......
采用Sol-gel法和层层快速退火工艺在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了厚度不同Nd掺杂的钙锶铋钛（C0.4S0.6NT）铁电薄膜。研究了单层膜厚和总......
SCR技术是目前脱硝技术中应用最广泛的,其系统核心是催化剂,催化剂性能的好坏直接影响着整个SCR系统的脱硝效率,因此,研究具有宽活......
铁酸钇（YFeO3）是典型的稀土钙钛矿型铁氧体之一,具有自旋重取向、法拉第旋转等独特的磁性能,可应用于磁感应器、磁光电流传感器、光......
汽车尾气排放成为当今大气污染控制的重点，对大气环境污染具有较高的贡献值。三效催化剂（TWCs）作为汽车尾气排放控制的有效手段，其能够......
采用溶剂热法制备了稀土Nd掺杂TiO2-NTs/SnO2-Sb电极,以苯酚作为典型有机物,考察了电极组成、结构与电极电催化效能的关系,实验结......
